產品詳情
簡單介紹：
機械測試儀TriboLab CMP****小規(guī)模研發(fā)系統(tǒng)中的 ROI，此臺式工具可再現全尺寸晶圓拋光工藝條件，而無需在生產設備上停機。
機械測試儀TriboLab CMP靈活參數控制，允許量身定制的測試，以加快材料開發(fā)，并**優(yōu)化流程。
專家應用和支持，我們與大型安裝基地合作多年，為您的實驗室提供專業(yè)知識。
詳情介紹：
機械測試儀TriboLab CMP利用其前身產品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領域專業(yè)知識，為業(yè)界**的 TriboLab 平臺帶來了一套完整的功能。基于本套設備產生的高精度和高可重復性使得在整個 CMP 流程中能夠進行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測試。機械測試儀TriboLab CMP是市場上**能夠提供廣泛的拋光壓力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測量的工藝開發(fā)工具，可準確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。
用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專業(yè)系統(tǒng)
布魯克的機械測試儀TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專為晶圓拋光工藝而設計，是具有可靠、靈活和高效的臺式設備。
- 重現全尺寸晶圓拋光工藝條件，無需在生產設備上停機
- 提供****的測量可重復性和細節(jié)檢測
- 允許在小樣品上進行測試，比全晶圓測試節(jié)省大量成本
機械測試儀TriboLab CMP板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過程
- 比市場上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數
- 從接觸拋光盤開始直至整個測試過程都能收集數據
- 通過更完整、更詳細的數據實現早期流程開發(fā)決策
機械測試儀TriboLab CMP具有靈活的樣品類型、尺寸和安裝配置
- 拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤，任何拋光液，和任何拋光墊
- 輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
- 可同時安裝多個樣品，測試更靈活
